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기술명

전자 방출용 에미터 및 이의 제조방법

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권리구분 특허
출원인 세종대 산학협력단
대표발명자 이름 소속학과 연구실
이내성 나노신소재공학과
대표연구분야 • CVD 및 전기방전을 이용한 고결정 CNT 합성 연구 • 엑스선 튜브, UV 램프 및 여러 전자빔 응용을 위한 CNT 페이스트 기반의 전계방출 에미터 연구 • 탄소나노소재를 이용한 열전도성 복합소재 연구 • 탄소나노소재를 이용한 유연 투명 박막히터 및 투명전극 연구
출원번호 10-2022-0001435 등록번호 10-2755116
출원일 2022-01-05 등록일 2025-01-10
특허원문 냉전자를 방출하기 위한 CNT 에미터 및 그 제조방법이 개시된다. 페이스를 형성하는 필러들은 Ni, Al2O3 및 Si를 가진다. 페이스트 내의 유기물을 제거하기 위한 소성 공정과는 별도로 고온의 진공 열처리 공정이 수행되어 금속 실리사이드를 형성한다. 형성된 금속 실리사이드는 기판과 에미션 층의 접착력을 제공하고, 에미션 층 내부의 응집력을 향상시킨다
상세기술정보 1 기술명 기술요약
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기술분류(대) 재료 기술분야 재료·화학
적용분야 CNT 페이스트
기술명

전자 방출용 에미터 및 이의 제조방법

권리구분 출원인
특허 세종대 산학협력단
대표발명자
이름 소속학과
이내성 나노신소재공학과
대표연구분야
• CVD 및 전기방전을 이용한 고결정 CNT 합성 연구 • 엑스선 튜브, UV 램프 및 여러 전자빔 응용을 위한 CNT 페이스트 기반의 전계방출 에미터 연구 • 탄소나노소재를 이용한 열전도성 복합소재 연구 • 탄소나노소재를 이용한 유연 투명 박막히터 및 투명전극 연구
출원번호 등록번호
10-2022-0001435 10-2755116
출원일 등록일
2022-01-05 2025-01-10
특허원문
냉전자를 방출하기 위한 CNT 에미터 및 그 제조방법이 개시된다. 페이스를 형성하는 필러들은 Ni, Al2O3 및 Si를 가진다. 페이스트 내의 유기물을 제거하기 위한 소성 공정과는 별도로 고온의 진공 열처리 공정이 수행되어 금속 실리사이드를 형성한다. 형성된 금속 실리사이드는 기판과 에미션 층의 접착력을 제공하고, 에미션 층 내부의 응집력을 향상시킨다
상세기술정보
기술명 기술요약
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기술분야 적용분야
재료·화학 CNT 페이스트