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| 기술명 |
비정질 전구체를 이용한 나노결정립 형상기억합금 또는비정질 합금을 포함하는 프로브 팁, 이를 포함하는프로브 카드 및 이의 형상 회복 방법 |
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| 권리구분 | 특허 | |||
| 출원인 | 세종대 산학협력단 | |||
| 대표발명자 | 이름 | 소속학과 | 연구실 | |
| 김기범 | 나노신소재공학과 |
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| 대표연구분야 | 합금설계, 미세조직제어, 기계적 특성, 표면기능화 | |||
| 출원번호 | 10-2016-0060598 | 등록번호 | 10-1748082 | |
| 출원일 | 2016-05-18 | 등록일 | 2017-06-09 | |
| 특허원문 |
▷본 기술은 반도체 장치의 검사 공정에 사용될 수 있고 비정질 전구체를 이용한 나노결정립 형상기억합금 또는 비정질 합금을 포함하는 프로브팁, 이를 포함하는 프로브카드 및 이의 형상회복 방법에 관한것임.
▷본 기술은 반도체 장치의 검사공정에 사용될 수 있는 프로브 팁의 형상이 반복된 검사 공정에 의해 지속적으로 압력을 받아 변형되거나 왜곡되더라도, 이러한 왜곡된 형상을 재사용할 수 있게 함으로써, 반도체 장치의 검사 공정에 소요되는 비용을 절감할 수 있음. ▷또한 프로브 팁의 형상을 간단한 열처리에 의해 용이하게 회복시킴으로써 프로브팁의 재사용성을 증가시키고 반도체 장치의 검사 공정에 관련된 전체적인 비용 절감을 기대할 수 있음 |
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| 상세기술정보 3 | 기술명 | 기술요약 | ||
| 나노결정립 형상기억합금을 포함하는 프로브 팁 | ▷반도체 웨이퍼의 반복된 검사 공정에서 반복적인 재사용의 경우에도 선단부의 변형 및 왜곡이 감소된 프로브 팁과 사용된 프로브 팁의 변형을 용이하게 회복시킬 수 있는 프로브 팁의 형상 회복 방법에 대한 기술임 |
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| 관련동영상 | ||||
| 기술분류(대) | 재료 | 기술분야 | 재료·화학 | |
| 적용분야 | 반도체 프로브팁 | |||
| 기술명 | |
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비정질 전구체를 이용한 나노결정립 형상기억합금 또는비정질 합금을 포함하는 프로브 팁, 이를 포함하는프로브 카드 및 이의 형상 회복 방법 |
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| 권리구분 | 출원인 |
| 특허 | 세종대 산학협력단 |
| 대표발명자 | |
| 이름 | 소속학과 |
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김기범
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나노신소재공학과 |
| 대표연구분야 | |
| 합금설계, 미세조직제어, 기계적 특성, 표면기능화 | |
| 출원번호 | 등록번호 |
| 10-2016-0060598 | 10-1748082 |
| 출원일 | 등록일 |
| 2016-05-18 | 2017-06-09 |
| 특허원문 | |
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▷본 기술은 반도체 장치의 검사 공정에 사용될 수 있고 비정질 전구체를 이용한 나노결정립 형상기억합금 또는 비정질 합금을 포함하는 프로브팁, 이를 포함하는 프로브카드 및 이의 형상회복 방법에 관한것임.
▷본 기술은 반도체 장치의 검사공정에 사용될 수 있는 프로브 팁의 형상이 반복된 검사 공정에 의해 지속적으로 압력을 받아 변형되거나 왜곡되더라도, 이러한 왜곡된 형상을 재사용할 수 있게 함으로써, 반도체 장치의 검사 공정에 소요되는 비용을 절감할 수 있음. ▷또한 프로브 팁의 형상을 간단한 열처리에 의해 용이하게 회복시킴으로써 프로브팁의 재사용성을 증가시키고 반도체 장치의 검사 공정에 관련된 전체적인 비용 절감을 기대할 수 있음 |
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| 상세기술정보 | |
| 기술명 | 기술요약 |
| 나노결정립 형상기억합금을 포함하는 프로브 팁 | ▷반도체 웨이퍼의 반복된 검사 공정에서 반복적인 재사용의 경우에도 선단부의 변형 및 왜곡이 감소된 프로브 팁과 사용된 프로브 팁의 변형을 용이하게 회복시킬 수 있는 프로브 팁의 형상 회복 방법에 대한 기술임 |
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| 기술분야 | 적용분야 |
| 재료·화학 | 반도체 프로브팁 |