기술이전센터에서 보유하고 있는 지재권을 자세히 소개해드립니다
기술명 |
세륨 산화물막을 활성층으로 포함하는 저항 변화 메모리 소자 |
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권리구분 | 특허 | |||
출원인 | 세종대 산학협력단 | |||
대표발명자 | 이름 | 소속학과 | 연구실 | |
김덕기 | 전자정보통신공학과 | |||
대표연구분야 | 반도체 소자 및 공정 | |||
출원번호 | 10-2019-0168803 | 등록번호 | 10-2345845 | |
출원일 | 2019-12-17 | 등록일 | 2021-12-28 | |
특허원문 | 저항 변화 메모리 소자를 제공한다. 상기 저항 변화 메모리 소자는 제 1 전극, 상기 제1 전극 상에 위치하고, 2가 금속 이온, 3가 금속 이온, 또는 이들의 조합이 도핑된 세륨 산화물층인 활성층, 및 상기 활성층 상에 위치하는 제 2 전극을 포함한다. | |||
상세기술정보 1 | 기술명 | 기술요약 | ||
등록된 자료가 없습니다. | ||||
기술분류(대) | 전기전자 | 기술분야 | 전기·전자 | |
적용분야 | 메모리 소자 |
기술명 | |
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세륨 산화물막을 활성층으로 포함하는 저항 변화 메모리 소자 |
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권리구분 | 출원인 |
특허 | 세종대 산학협력단 |
대표발명자 | |
이름 | 소속학과 |
김덕기 | 전자정보통신공학과 |
대표연구분야 | |
반도체 소자 및 공정 | |
출원번호 | 등록번호 |
10-2019-0168803 | 10-2345845 |
출원일 | 등록일 |
2019-12-17 | 2021-12-28 |
특허원문 | |
저항 변화 메모리 소자를 제공한다. 상기 저항 변화 메모리 소자는 제 1 전극, 상기 제1 전극 상에 위치하고, 2가 금속 이온, 3가 금속 이온, 또는 이들의 조합이 도핑된 세륨 산화물층인 활성층, 및 상기 활성층 상에 위치하는 제 2 전극을 포함한다. | |
상세기술정보 | |
기술명 | 기술요약 |
등록된 자료가 없습니다. | |
기술분야 | 적용분야 |
전기·전자 | 메모리 소자 |