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기술명

ALD 공정에서 금속 전구체 환원용 환원제 조성물 및 금속 박막의 형성 방법

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권리구분 특허
출원인 세종대 산학협력단,영남대학교 산학협력단
대표발명자 이름 소속학과 연구실
이원준 나노신소재공학과
대표연구분야 반도체제조용 공정/소재/장비의 연구개발 - Atomic layer deposition (ALD) - precursor, in situ analysis, DFT simulation - 3D packaging - hybrid bonding, FEM simulation
출원번호 10-2022-0114421 등록번호 10-2597576
출원일 2022-09-08 등록일 2023-10-30
특허원문 디에틸아미노 보란을 포함하며, 원자층 증착(ALD)에 사용되는 금속 전구체를 환원시키는 환원제 조성물, 및 이를 이용한 금속 박막의 형성 방법에 관한 것이다.
상세기술정보 1 기술명 기술요약
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기술분류(대) 재료 기술분야 재료·화학
적용분야 전구체 환원제
기술명

ALD 공정에서 금속 전구체 환원용 환원제 조성물 및 금속 박막의 형성 방법

권리구분 출원인
특허 세종대 산학협력단,영남대학교 산학협력단
대표발명자
이름 소속학과
이원준 나노신소재공학과
대표연구분야
반도체제조용 공정/소재/장비의 연구개발 - Atomic layer deposition (ALD) - precursor, in situ analysis, DFT simulation - 3D packaging - hybrid bonding, FEM simulation
출원번호 등록번호
10-2022-0114421 10-2597576
출원일 등록일
2022-09-08 2023-10-30
특허원문
디에틸아미노 보란을 포함하며, 원자층 증착(ALD)에 사용되는 금속 전구체를 환원시키는 환원제 조성물, 및 이를 이용한 금속 박막의 형성 방법에 관한 것이다.
상세기술정보
기술명 기술요약
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기술분야 적용분야
재료·화학 전구체 환원제