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반도체 제조 공정에서 고체 전구체의 불균일한 증발은 증착 품질 저하와 전구체 소모량 증가를 야기하는 문제점이 있습니다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해 고형 증착 물질의 표면을 실시간으로 감지하고 자동으로 높이를 조절하여 평탄화하는 장치 및 방법을 제안합니다. 이 기술을 통해 고형 증착 물질의 증발 표면적을 일정하게 유지함으로써, 기화된 전구체의 안정적인 공급이 가능해져 증착 품질을 획기적으로 향상시키고 전구체 소모량을 절감할 수 있습니다. 이는 반도체 생산의 효율성과 경제성을 동시에 증대시키는 혁신적인 기술입니다.

반도체 제조 공정에서 고체 전구체의 불균일한 증발은 증착 품질 저하와 전구체 소모량 증가를 야기하는 문제점이 있습니다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해 고형 증착 물질의 표면을 실시간으로 감지하고 자동으로 높이를 조절하여 평탄화하는 장치 및 방법을 제안합니다. 이 기술을 통해 고형 증착 물질의 증발 표면적을 일정하게 유지함으로써, 기화된 전구체의 안정적인 공급이 가능해져 증착 품질을 획기적으로 향상시키고 전구체 소모량을 절감할 수 있습니다. 이는 반도체 생산의 효율성과 경제성을 동시에 증대시키는 혁신적인 기술입니다.


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